MAFAC MALTA水洗清洗設備應用於EUV非光學部件與相關零件適用於潔凈室和真空環境，以及真空條件之外的使用。
在光學、雷射和半導體行業，對清洗的清潔度的要求持續上升。目標是可靠地去除最微小的污染痕跡。其清洗挑戰在於根據三個定義的清潔度級別清潔元件：
- 3 級：在真空以外的潔凈室環境中使用的零件
- 2 級：用於潔凈室和真空應用的部件
- 1級：整合到 EUV 光學模組中的非光學元件的最高標準
所有級別都要求來自顆粒、有機殘留物或化學元素的污染最小，這是敏感製造系統性能的關鍵因素。
解決方案
MAFAC MALTA 及其系統技術和外圍裝置提供了一個實用且高效的解決方案：
- 直接在潔凈室中進行清潔，以防止再次污染
- 精確控制所有工藝參數，確保去除不需要的殘留物
- 通過 XPS 分析（X 射線光電子能譜）進行工藝驗證
測試結果
- 可靠地滿足所有規定的清潔度要求
- 事實證明，該清潔系統與現有的生產工作流程完全相容
- 不需要複雜的定製調整或開發週期
- 通過經過驗證的測量驗證了對技術規範的合規性
- 該解決方案既提供了過程可靠性，又提供了經濟性
客戶體驗
光學、雷射和半導體行業的領先製造商中，成功地將MAFAC系統的清潔性能整合到其現有標準化流程中。通過結合成熟的技術、定製的參數和無塵室處理，即使是最嚴格的 EUV 要求也能得到可靠滿足。
注意
等級類別 （1–3） 用於簡化清潔度級別的說明。它們反映了基於行業的實用標準，但不是官方或正式規範。