MAFAC MALTA 水系洗浄装置は、EUVリソグラフィ用の非光学部品および関連部品の洗浄に適しており、クリーンルームおよび真空環境、さらに真空条件外での運用にも対応しています。
光学、レーザー、半導体分野では、洗浄に求められる清浄度の基準が年々高まっています。目的は、微細な汚染痕跡を確実に除去することにあります。洗浄工程における課題は、以下の3つの定義された清浄度レベルに基づいて部品を処理する点にあります。
- クラス3： 真空外のクリーンルーム環境で使用される部品
- クラス2： クリーンルームおよび真空用途に使用される部品
- クラス1： EUV光学モジュールに組み込まれる非光学部品向けの最高基準
いずれのレベルにおいても、粒子・有機残渣・化学元素による汚染を極限まで低減することが求められます。
これは、高感度な製造システムの性能と信頼性を維持するための重要な要素です。
ソリューション
MAFAC MALTA とそのシステム技術および周辺装置は、高い実用性と効率性を両立した洗浄ソリューションを提供します。
- クリーンルーム内で直接洗浄を行い、再汚染を防止
- すべてのプロセスパラメータを精密に制御し、不要な残留物を確実に除去
- XPS（X線光電子分光法）によるプロセス検証を実施
テスト結果
- 規定されたすべての清浄度要件を確実に満たすことを確認
- 既存の生産ワークフローとの高い互換性を実証
- 特別なカスタマイズや長期の開発期間を要せず導入が可能
- 検証データに基づき、技術仕様への適合性を確認
- 高いプロセス安定性と経済性を両立
ユーザー評価
光学、レーザー、半導体分野の主要メーカーにおいて、MAFAC システムの洗浄性能は既存の標準化プロセスに円滑に組み込まれています。成熟した技術、最適化されたプロセスパラメータ、クリーンルーム内での洗浄処理を組み合わせることで、最も厳しい EUV 要件にも安定して対応しています。
補足
クラス分類（1～3）は、清浄度レベルを示す目安として定義された区分であり、業界に基づいた実用的な指標を示すもので、公式な規格ではありません。